ガスクロマトグラス GC8A（島津製作所）
シンプルな構造の定番ガスクロ。検出器はTCDを装備しています。 |
高速液体クロマトグラフ LC-2010AHT(島津製作所)
オートサンプラーを備えたHPLCで、検出器はUV-visを装備し、グラジエント対応です。専用のワークステーション(LC-Solution)で操作します。 |
イオンクロマトグラフ PIA-1000(島津製作所)
ノンサプレッサー仕様の小型イオンクロマトです。アニオンおよびカチオン、両方の測定に対応可能です。 |
ガスクロマトグラフ GC-2014(島津製作所)
TCDとFIDを内蔵しており、FIDはキャピラリ仕様です。手動のガスサンプラーも装備しています。 |
センサガスクロマトグラフ ODNA-P2(FIS)
検出器として半導体ガスセンサを装備し、キャリアガスとしては吸引した大気を用います。分析対象ガスは主にアンモニアで、測定可能な濃度範囲は50ppb～100ppmです。 |
走査型電子顕微鏡 VE-8800(キーエンス)
加速電圧は20kVで、仕様では最大10万倍、分解能 30nmです。当室(8Fに設置）では2-3万倍が実用上の限界です。 |
光学顕微鏡 BX51(オリンパス)
高ＥＦ比の偏光特性を備えた光学系により、コントラストの高い偏光（微分干渉）観察が可能な顕微鏡です。 |
走査型電子顕微鏡/EDX S2100H （日立製作所）
タングステンフイラメントによる走査型電子顕微鏡です。付属のEDX検出器を用いることで成分分析が可能です。(仙台に設置) |
フーリエ変換赤外分光光度計 FT/IR-6100(日本分光)
検出器としてTGSに加え、高感度のMCTを装備しています。また雰囲気および温度を制御した環境での拡散反射法での測定が可能な真空加熱拡散反射測定装置(DR-600Ai)も保有しています。 |
紫外可視分光光度計 V-550(日本分光)
積分球やフローセルの装着が可能です。バンドギャップ測定、カラー測定、インターバル測定などソフトも充実しています。 |
ファイバマルチチャンネル分光器 USB2000+UV-VIS-ES(Ocean Optics)
200 - 850 nmの波長域を2048素子リニアシリコンCCDアレイで測定します。波長分解能 〜 1.5 nmで、最速1 msecでデータ転送が可能であり、外部トリガを用いた測定も可能です。 |
接触角測定装置 Drop Master 500 (協和界面科学)
表面の濡れ性を接触角により評価する装置です。高速画像取り込み機能により、接触角の経時変化も測定できます。 |
X線回折装置 X'Pert Pro MPD(PANalytical)
通常測定に加え、結晶配向測定、微小領域測定、薄膜表面測定等が可能です。アレイ型半導体検出器を備え、通常測定では高速測定が可能です。 |
示差走査熱量測定 3300S（ブルッカー）
室温から1500℃までの温度範囲で、試料と標準物質の温度差を検知することで、試料の反応温度を決定できます。 |
電気化学測定装置 HZ-5000（北斗電工）
ポテンショスタットとガルバノスタットを内蔵し、多様な電気化学反応測定が可能です。 |
全自動化学吸着測定装置 Autochem II 2920(Micromeritics)
自動でCOパルス化学吸着、昇温還元（TPR）、昇温脱離（TPD）、昇温酸化（TPO）、BET 表面積などを測定できます。当室では、10%H2/Ar、10%CO/He、30%N2/He、10% O2/Heが使用可能なガスです。 |
水素吸蔵測定装置 PCT-4SDWIN（鈴木商館）
試料の水素吸収・放出過程を評価する装置です。(仙台に設置) |
硬度試験機 MVK-H（ミツトヨ）
試験荷重を0.05～2000gfまでかえて硬度測定が可能です。(仙台に設置) |
ディップコーター MD-0408（あすみ技研）
溶液に基板を浸漬し、表面に膜を生成する装置です。基板引上げ速度を変えることで膜厚の制御が可能です。 |
凍結乾燥機 FDU-1200(東京理化器械製)
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遠心分離機 himac CT15RE(日立工機)
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pH/イオン/電導度計 F-74BW(堀場製作所)
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マッフル炉 FO100 （ヤマト科学）
1150℃まで昇温可能な大気熱処理炉で、温度・時間・指示値はデジタル設定が可能です。(仙台に設置) |
バイブロメット Vibromet-2（Buehler）
バフ研磨用自動研磨機で、加工歪みを極力抑えた研磨が可能です。OIM観察用の試料研磨に適します。(仙台に設置) |
雰囲気制御炉 310-WR-100X150-SP （Necco）
グローブボックスを備えた雰囲気制御が可能な熱処理炉です。水素雰囲気での熱処理も可能です。(仙台に設置) |
